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結論與建議
- 台積電 N2 製程放量加速，預計從 2Q26 開始將帶來顯著營收貢獻，展望全年營收逐季增、年增 35~40%，且產品組合優化將推升毛利率持續向上，預期長期將大於 46%。
- 高雄廠一、二期產能將陸續支援台積電未來兩年 11 座 N2 新廠量產需求，一期已滿載供應 4 座 N2 廠、二期預計 1Q27 上線。
- 積極佈局 DUV（KrF/ArF）光阻市場，斥資 35 億元於龍潭建置研發與合成中心，切入先進封裝新戰場，預計 2027 年貢獻營收。
公司簡介
新應材成立於 2003 年，初期以顯示器材料起家，後逐步往半導體材料轉型，2014 年 CIS 光阻導入采鈺，2019 年半導體先進微影製程材料產品－表面改質劑（Rinse）導入台積電製程，2020 年量產出貨。
現階段產品著重於半導體前段微影製程光阻週邊材料（配方型材料為主），主要產品表面改質劑（Rinse）已導入至台積電 N3、N2 製程，另外 2 支產品－底部抗反射層（BARC）、洗邊劑（EBR）亦導入至 N2 製程。
目前半導體營收佔比已接近九成，顯示器材料僅剩一成，近五年台積電營收佔比從小於 10% 升至大於 70%。
新應材產品組合如下：
- 半導體先進微影材料：為目前營收主要來源，包含表面改質劑（Rinse）、底部抗反射層（BARC）、
