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1. 營運摘要
- 整體表現：公司預期 2026 年整體表現將顯著優於 2025 年。從目前業務繁忙程度來看，營運狀況良好。
- 策略重點：公司策略正從過去的「跟隨者」角色，轉型為「開創者」，積極與客戶在 早期研發階段進行合作，挑戰全球領先的設備開發，以掌握藍海市場的先機。
- 主要進展：
- Panel Level Package (PLP)：成功推出 PLP 平台的 PVD 與 Descum 設備，投資回報快速，已接獲 5 台訂單。
- 原子層沉積 (ALD)：在先進製程與智慧眼鏡應用上展現強勁動能，新一代的 UV ALD (Lumina) 與 Hybrid ALD (HyFA) 設備已進入製程驗證階段。
- EUV 相關：與客戶合作開發的 EUV 光罩護膜 (Pellicle) 量測設備，性能已達到預期目標。
- 產能規劃：因應業務成長，現有無塵室空間已顯侷促，正評估將湖口廠二樓庫房改建為無塵室，以擴充產能。
- 併購效益：去年收購的日本名古屋公司 JTCK (已更名為澤虹)，在第一季即達成損益兩平，目前已開始貢獻獲利。
2. 主要業務與產品組合
- 核心業務：專注於高真空電漿與雷射相關技術的半導體設備開發，主要產品線包括物理氣相沉積 (PVD)、原子層沉積 (ALD)、蝕刻 (Etch/Descum) 及晶圓貼合/剝離 (Bonder/De-Bonder) 等。
- 產品組合概況：
- PVD：仍為公司營收主力。正開發 BHS-C 新型反應腔，以應對 TSV/TGV 等高深寬比結構的鍍膜需求，特別是關鍵的阻障層 (B
