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【個股分析】天虹:擺脫 2025 年營運低谷,FOPLP 進入放量期

最後更新:2026.06.18 18:26

結論與建議

  • 公司已成功交付全球首創 310×310mm 面板級封裝 (PLP PVD) 設備 2 台予台系封測大廠,且一、二、三號機皆已收到 310*310mm Repeat Order,正式進入放量爬坡期。
  • 自研 PVD(物理氣相沉積)與 ALD(原子層沉積)之設備已打入台系晶圓代工供應鏈,並隨 N3/N2 製程推進增加表面處理技術應用。
  • 積極佈局 EUV Pellicle(極紫外光光罩保護膜)量測設備,預計 1Q27 出貨,補足先進光學量產設備缺口;另開發 TGV、CPO、UV ALD、Meta Lens ALD 等設備中。

公司簡介

天虹成立於 2002 年,為國內關鍵半導體設備及零組件供應商,經營團隊來自於應用材料 (AMAT),公司剛開始從零組件起家,並於 2017 年投入設備研發,整合機電、軟體、製程開發等人才,成功做出首台國產原子層沉積 ALD 設備。台灣設備廠商多集中於濕製程設備,天虹因核心團隊來自 AMAT,對於真空、電漿較為熟悉,故切入此利基市場。

目前生產據點包含:新竹湖口廠、竹北廠、竹北台園廠,以及台南廠、鑫天虹廈門廠。

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