觀點
- 隨 AI 晶片算力提升,透過水平排列的 CoWoS 會產生積熱與電力損耗,且 CoWoS 仍有光罩面積的限制,導致晶片無法無限水平擴張,在 AI 伺服器晶片功率持續提升下,熱與電功耗為首要解決的問題。SoIC 的 3D 堆疊能大幅縮短傳輸距離,在維持高性能的同時顯著降低功耗並改善散熱,故 SoIC 已成為 AI 伺服器追求性能與功耗下的必然選擇。
- SoIC 負責打造摩天大樓,讓算力高的晶片直接垂直溝通,減少訊號延遲、提升訊號傳輸量,解決了單顆晶片算力提升後,訊號卻來不及向外傳遞的問題;而 CoWoS 則是水平的平房擴建,優勢在於可將邏輯晶片和 HBM 大規模連接,技術相對成熟,是相對可平衡性能與成本的解決方案,故 SoIC 與 CoWoS 並非互相競爭,而是互相合作的關係。
- SoIC-P 採用微凸塊作為晶片間連接的橋樑,製造成本雖較 CoWoS 技術高,但速度更快、訊號延遲更低;SoIC-X 採無凸塊設計,直接將晶片對接,雖製造成本最高,但優點在於可讓訊號傳遞如同在單顆晶片內移動一樣順暢,可以傳遞更多訊號並降低能耗,徹底解決過往算力被傳輸速度拖累的問題。
- SoIC 製程難度在於晶片表面要非常平整,且製程環境要非常潔淨。由於晶片是直接貼合,晶片表面必須磨到非常平整,只要有凹凸面或有灰塵殘留,兩顆晶片間會產生氣泡,無法精準密合,導致晶片失效。此外,晶片為了堆疊必須磨得很薄,如何讓薄如紙的晶片在加熱過程中不變形、不破裂,是目前提升良率的最大挑戰。
晶片垂直堆疊是新技術嗎?新推出的SoIC又有什麼優勢?
晶片垂直堆疊是半導體產業長年追求的目標,早在 1990 年代,半導體業界就有 SiP (System in Package)、 PoP (Package on Package) 等封裝技術出現。如下圖,這兩種封裝形式將不同功能的晶片(如處理器、記憶體、感測器)在進行水平或垂直堆疊,透過打線封裝(Wire Bonding)或覆晶封裝(Flip Chip)進行連接,此時晶片間仍須仰賴凸塊(Bump)連接,尚未達到「直接堆疊」的程度。以 SiP、PoP 封裝的晶片通常用於手機、手錶等行動裝置上,目的是讓晶片變得更小、更薄,而非追求性能更快、訊號傳輸路徑更短。
SiP、PoP封裝示意圖

資料來源:自行整理
隨著封裝技術進步,台積電推出 SoIC(System on Integrated Chips)技術,打破了封裝與製程界線。這項技術突破點在於晶片捨棄了傳統的微凸塊(μBump),改採無凸塊(Bumpless)的貼合技術,將兩顆晶片以銅對銅方式緊密貼合在一起。
傳統微凸塊受限於物理體積,不僅佔據寶貴的空間,產生的電阻也會造成訊號延遲與額外功耗;SoIC 讓晶片互連密度不再受限於凸塊大小,使接點密度提升,也有效縮短訊號傳輸路徑、提升資料吞吐量,成為後摩爾時代延續半導體效能增長的關鍵。
未來 SoIC 會取代 CoWoS 嗎?
面對未來 AI 晶片的算力需求,SoIC 會取代現有的 CoWoS 嗎?在台積電完整的 3DFabric 生態系中,兩者並非競爭關係,而是並存發