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法說會備忘錄
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【法說會備忘錄】汎銓 2024Q3

初次發布:2024.10.09
最後更新:2026.04.19 23:18

本報告內容使用 LLM 技術,並根據 台灣證券交易所及櫃買中心法說會之官方影音檔 進行摘要整理。目標是協助讀者快速理解各公司法說會之重點,包括營運狀況、財務表現及未來展望。本摘要僅供參考,若有進一步需求,請查閱原始影音內容或公司官方公告。

1. 營運摘要

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汎銓董事長劉紀倫說明公司營運業務及財務概況。公司目前在先進製程分析檢測市場扮演重要角色,市佔率過半,未來把握度更高。成熟製程、化合物半導體、CIS、OLED 及軟板等市場需求狀況不明,預期 2024 年營收與 2023 年持平,2025 年預計持平後向上。IC 設計公司開案量分歧,與 AI 相關的公司開案量較佳,非 AI 相關的開案量較少,故障分析業務預期持平。

公司近年積極投入的細光子與 AI 晶片分析檢測已開始貢獻營收,目前在這兩塊市場居於寡佔或獨佔地位。雖然 2024 年營收成長但成本較高導致利潤不佳,主要是因為過去兩年投入 15 億元購買 30 台新設備,導致折舊成本大幅增加 (單月折舊預計於 2024 年 12 月超過 6,000 萬元),同時新增人力學習曲線長 (新人產出水準約僅老手的三分之一)。

展望未來,公司對 2025 年及 2026 年的營運展望樂觀。預期隨著新人學習曲線提升,先進製程材料分析產能及效率將顯著增加;細光子及 AI 晶片分析需求隨客戶研發及量產規劃而增加;美國及日本新據點預計於 2025 年下半年開始貢獻營收。預期 2025 年利潤將回到 2023 年以前的水準,2026 年將更為漂亮。

2. 主要業務與產品組合

汎銓主要提供半導體產業的分析檢測服務,核心業務包括材料分析 (Materials Analysis, MA) 及故障分析 (Failure Analysis, FA)。公司營運據點目前位於台灣及中國大陸,並積極拓展美國及日本市場。

根據董事長揭露的資訊 (排除中國大陸 15% 營收貢獻後,統計 2024 年 1 月至 9 月平均數字):

  • 先進製程材料分析 (Advanced Process MA): 佔營收比重約 65%。汎銓在先進製程分析領域市佔率高,具備低溫 ALCVD、導電膠導電膜、自動量測等多項專利技術。在 High-NA EUV 等新技術的光阻研發分析中扮演重要角色。
  • 細光子 (Silicon Photonics): 佔營收比重約 3%。提供細光子產品的故障分析 (FA) 及材料分析 (MA) 服務,尤其在尋找漏光點 (FA) 方面具備獨特的技術能力,目前處於寡佔或獨佔地位。與主要客戶合作已超過三年,客戶目標於 2026 年量產,預計 2025 年研發投入最熱絡。
  • AI 晶片 (AI Chips): 佔營收比重約 4%。提供 AI 晶片 (包含 PIC 與 IC 部分) 的 FA/MA 服務。目前與一家大型 AI 公司採獨家合作模式,客戶人員及設備進駐汎銓廠區設立專區進行研發分析。
  • 成熟製程材料分析及其他故障分析 (Mature Process MA & Other FA): 佔營收比重約 28% (計算方式:100% - 65% - 3% - 4% = 28%)。包含成熟製程的材料分析,以及非 AI 相關的 IC 設計公司故障分析等。目前需求狀況不明,預期短期內持平。

中國大陸業務佔公司整體營收約 15%,但因客戶越來越在意價格,甚至採標案模式,公司已策略性減少低價業務,導致近期業績受影響,預計 11、12 月會回穩。

3. 財務表現

  • 營收: 2024 年預計與 2023 年持平。2025 年預計呈現顯著成長,尤其從下半年開始。
  • 利潤: 2024 年利潤表現不佳。
  • 主要驅動因素與挑戰:
    • 驅動因素: 先進製程分析需求穩健、細光子及 AI 晶片等新興領域分析需求增加、核心技術優勢帶來的議價能力及市佔率。
    • 挑戰: 過去兩年投入 15 億元購置 30 台新設備,導致折舊成本大幅增加 (單月折舊成本從兩年前的約 2,000 萬元增加至 2024 年 12 月預計超過 6,000 萬元)。同時,因應設備增加而招募的 100 多位新人,由於案件難度高及樣本寶貴,學習曲線拉長,目前產出效率僅約老手的三分之一,影響產能利用率及獲利能力。中國大陸市場的價格競爭加劇。
  • 值得關注的事件: 過去兩年進行大規模資本支出購置新設備。與主要客戶深度合作,在台灣廠區設立細光子及 AI 晶片專區。啟動美國及日本的國際擴張計畫。

註:法說會中並未提供詳細的季對季或年對年的營收、毛利率、營益率、淨利等財務數據表格,僅以概括性描述及預期為主。

4. 市場與產品發展動態

  • 趨勢與機會: 半導體製程持續推進至奈米世代,分析需求複雜度提升。細光子及 AI 晶片等新興技術的快速發展,帶來新的分析檢測需求。
  • 關鍵產品/技術:
    • 先進製程分析技術: 汎銓的低溫 ALCVD、導電膠導電膜、自動量測等專利技術,使其能在先進製程分析市場取得高市佔率及較高價格。公司參與了 High-NA EUV 光阻等先進材料的早期分析研發,鞏固未來地位。
    • 細光子分析技術: 發展出獨特的 FA (尋找漏光點) 技術,這是進行後續材料分析的關鍵。客戶高度依賴此技術,形成獨佔或寡佔優勢。
    • AI 晶片分析服務: 與領先的 AI 公司建立緊密合作,提供專屬的分析服務,涵蓋 PIC 及 IC 部分,利用既有 MA/FA 設備及人力資源。
  • 合作夥伴關係: 與主要晶圓代工廠在先進製程及細光子領域進行深度研發合作。與領先的 AI 公司建立獨家分析服務合作。與設備商 (如 ASML) 及材料商在未來技術研發初期即有合作關係。

5. 營運策略與未來發展

  • 長期規劃: 專注於高階、高毛利的分析檢測市場 (先進製程、細光子、AI 晶片)。持續投入研發以維持技術領先。積極進行國際佈局,擴展至美國、日本等關鍵市場。
  • 競爭優勢: 在先進製程材料分析領域具備專利及技術護城河。在細光子及 AI 晶片分析領域因早期投入、技術獨特性及客戶機密性要求,建立寡佔/獨佔地位。與主要客戶建立緊密合作關係。
  • 風險與應對:
    • 風險: 大規模設備投資導致折舊成本高昂;新人學習曲線長影響短期產能及效率;市場需求不明確 (成熟製程、部分 IC 設計);中國大陸市場價格競爭。
    • 應對: 透過時間提升新人熟練度,預計 2025 年效率顯著提升,釋放產能。策略性調整中國大陸業務,減少低價競爭。利用技術優勢及獨家合作關係鞏固高階市場的定價能力及市佔率。國際擴張以分散市場風險並貼近客戶需求。

6. 展望與指引

  • 營運展望:
    • 2024 年: 營收預計與 2023 年持平。受折舊及人力成本增加影響,利潤將較為辛苦。
    • 2025 年: 預計營收及獲利將顯著成長。主要動能來自:
      • 先進製程材料分析:新人學習曲線提升,產能釋放,效率提高。
      • 細光子及 AI 晶片:客戶研發及潛在量產需求增加,業務量成長。
      • 國際市場:美國及日本新據點預計從 2025 年下半年開始貢獻營收。
      • 成本結構:折舊成本增加幅度趨緩,人力增加幅度較小,業績成長將直接帶動利潤。
    • 2026 年: 預計營運表現將更為亮眼,新人屆時已成熟,產能效率達到更高水準。
  • 機會: 先進製程技術演進帶來持續分析需求;細光子及 AI 晶片市場的成長;國際市場拓展帶來的增量。
  • 風險: 全球經濟及半導體景氣波動;客戶需求變化;國際擴張執行風險;人才競爭。

免責聲明

本報告內容使用 AI 技術根據各家公司法說會之影音內容進行摘要整理。本文件的目標是協助讀者快速理解各公司法說會之重點,包括營運狀況、財務表現及未來展望,內容僅供參考,不構成任何投資建議。

本摘要僅供參考,若有進一步需求,請查閱原始影音及法說會簡報內容或公司官方公告。


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